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机译:通过反应离子刻蚀实现无光刻的高纵横比亚微米石英柱
Zeze, DA; Cox, DC; Weiss, BL; Silva, SRP;
机译:在Ar / CF_4-等离子体中通过无光刻反应离子刻蚀对玻璃表面进行改性,以控制扩散光散射
机译:由于依赖于纵横比的传输和微负载效应,在硅的深反应离子刻蚀中可实现的最大纵横比
机译:深度深层反应离子刻蚀石英中取决于纵横比的刻蚀
机译:多相多级反应性和非反应性分离塔的仿真。
机译:用于MEMS谐振装置制造的Z-Cutα石英的深反应离子蚀刻
机译:通过反应离子刻蚀实现无光刻的高纵横比亚微米石英柱。
机译:反应性离子或离子束蚀刻石英或石英玻璃以进行成型或结构化,在惰性材料制成的设备中使用含氟蚀刻气体以及其他含氟和/或氢气体
机译:电感耦合等离子体处理系统中高纵横比的亚微米接触蚀刻工艺
机译:通过反应离子刻蚀形成具有不同纵横比的特征
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